VÝRAZY POUŽÍVANÉ V PLAZMOVÉ FYZICE :: CVD

	SLOVNÍK VÝRAZŮ
	[ VÝRAZY POUZÍVANÉ V PLAZMOVÉ FYZICE ]

	CVD Depozice v plynné fázi, proces povlakování, který zahrnuje nanásení vrstvy rozlozením plynné směsi ( např. nanásení kovu teplotním rozkladem těkavých směsí kovu ). CVD proces můze být podporován (PECVD = Plasma Enhanced CVD) nebo spustěn (PACVD = Plasma Activated CVD) plazmou. Důlezitými aplikacemi CVD procesů jsou vrstvy amorfního uhlíku nebo křemíku, stejně jako vrstvy nitridu titanu, karbidu titanu a nitride křemíku.

	home \| Plazmová technika \| Slovník výrazů \| FAQ \| Plazmové systémy \| Systémy k pronájmu \| Placené sluzby \| Poradenství / Servis \| Odkazy / zastoupení \| Reference \| Ke stazení \| Veletrhy \| Kontaktujte nás \| Kde nás najdete \| O nás \| Komentář

	© 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG Webdesign Heindl Internet AG

SLOVNÍK VÝRAZŮ