| |
Technické údaje:
Plasma etcher Nano
rozvaděč:
W 580 mm, H 650 mm, D 600 mm
komora:
Ø 240 mm, L 400 mm
(volitelně: L 600 mm)
materiály: křemenné nebo borosilikátové sklo
přední a zadní strana komory: hliník
objem komory:
přibližně 18 litrys
zdroj plynu:
two plynové kanály přes jehlový ventil
generátor:
40kHz/300 W, neomezeně variabilní
(volitelně: 13.56 MHz or 2.45 GHz)
vakuová pumpa:
Leybold, Typ D8B (8 m³/h)
nosiče výrobků:
1 ks nosič výrobků
řízení:
poloautomatické řízení, procesní čas nastavován časovačem
volitelné položky / příslušenství
|
|
PLASMA SYSTEM NANO UHP s poloautomatickým řízením: Čištění, aktivace, leptání, nanášení povlaků |
