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PLASMAANLAGEN - STANDARDANLAGEN[ FEMTO UHP]Die 1,9-Liter-Laboranlage FEMTO UHP mit halbautomatischer Steuerung kommt vorwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz:
Eingesetzt werden Glaskammern in Mikrowellenanlagen und/oder bei Anwendungen, bei denen eine ultrareine Oberfläche erforderlich ist. Normale Edelstahl- oder Aluminiumkammern können, wie alle Metalle in einer Plasmaanlage, also auch das Behandlungsgut, in geringsten Mengen sputtern. Für die meisten Prozesse ist das nicht von Bedeutung und absolut vernachlässigbar. Die Aluminiumbauteile aus der UHP-Anlage sind mit AL2O3 beschichtet. Prospekt FEMTO (PDF 1007 KB) Da die Anlagen keinen Edelstahl - Rezipienten besitzt, ist sie für Anwendungen geeignet, bei denen Spuren von Chrom, Nickel und Eisen störend sind. Alle Plasmasysteme können in den verschiedensten Variationen kombiniert werden. Die folgende Übersicht soll zu einem Überblick über die gängigsten Anlagen verhelfen. Technische Daten Plasma Sytem Femto UHP TYP A mit digital Timer
Gehäuse:
B 345 mm, H 211 mm, T 420 mm Kammer: Ø95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm Kammervolumen: ca. 1,9 Liter Werkstoffe: Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium Gaszuführung: 1 Gaskanäl über Nadelventil Generator: 40 kHz/100W, stufenlos Vakuumpumpe: Pfeiffer Duo(2,5m³/h) Teile-Aufnahme: 1 St. Warenträger Steuerung: Manuell, Prozeßzeit über Timer Timer: H8GN 
Kleinanlage FEMTO UHP TYP A mit Timer : Einsetzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie Optionen / Zubehör
Preis auf Anfrage Technische Daten Plasma System Femto UHP TYP B (mit Scharniertür)Gehäuse: 
Kleinanlage FEMTO UHP TYP B : Einsetzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie Optionen / Zubehör
Preis auf Anfrage Technische Daten Plasma System Femto UHP TYP C
Gehäuse:
B 562 mm, H 211 mm, T 420 mm Kammer: Ø95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm Kammervolumen: ca. 1,9 Liter Werkstoffe: Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium Gaszuführung: 2 Gaskanäle über Nadelventil Generator: 40 kHz/100W, stufenlos regelbar Vakuumpumpe: Pfeiffer Duo(2,5m³/h) Teile-Aufnahme: 1 St. Warenträger Steuerung: Manuell, Prozeßzeit über Timer Druckmessgerät: Pirani Timer: LT4H 
Kleinanlage FEMTO UHP TYP C : Einsetzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie Optionen / Zubehör
Preis auf Anfrage Technische Daten Plasma System Femto-PC UHP TYP D
Gehäuse:
B 500 mm, H 460 mm, T 550 mm Kammer: Ø95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm Kammervolumen: ca. 1,9 Liter Werkstoffe: Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium Gaszuführung: 3 Gaskanälel über über je einen MFC Generator: 40 kHz/0-100 W (Optional: 13,56 MHz o. 2,45 GHz) Vakuumpumpe: Pfeiffer Duo(2,5m³/h) Teile-Aufnahme: 1 St. Warenträger Steuerung: PC-Steuerung unter Windows (siehe unsere Seiten über PC-Steuerung)  Kleinanlage FEMTO-PC UHP TYP D : Einsetzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie Optionen / Zubehör
Preis auf Anfrage Technische Daten Plasma System Femto UHP TYP E
Gehäuse: B 310 mm, H 570 mm, T 420 mm Kammer: Ø95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm Kammervolumen: ca. 1,9 Liter Werkstoffe: Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium Gaszuführung: 2 Gaskanäle über Nadelventile Generator: 40 kHz/100W, stufenlos regelbar Vakuumpumpe: Pfeiffer Duo(2,5m³/h) Teile-Aufnahme: 1 St. Warenträger Steuerung: Manuell, Prozeßzeit über Timer Druckmessgerät: Pirani Timer: LT4H  Kleinanlage FEMTO UHP TYP E : Einsetzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie Optionen / Zubehör
Preis auf Anfrage Bitte setzen Sie sich wegen technischer Beratung für diese Anlagen mit uns in Verbindung. |
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