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SPUTTER PLASMAANLAGE

[ PLASMA SYSTEM Tetra 15 ]



Die TETRA 15 Plasmaanlage ist mit dem Verfahren Sputtern für die hochvakuumbasierte Beschichtungstechnik sowie für das Reinigungsverfahren zur Präparation hochreiner Oberflächen konzipiert.

Rufen Sie uns an, wir beraten Sie gerne. Tel.: +49 (0) 7458 - 999 31 - 0


Grundausstattung

- Gehäuse ca. B 1.000 mm x H 1.700 mm x T 800 mm
- Kammervolumen: ca. 15 Liter
- Spannungsversorgung: 400 V / 16 A

Gaszufuhr

- 2 Mass-Flow-Controller (MFCs)

Vakuumkammern

- Edelstahl, rechteckige Tür mit Scharnier
  B 360 x H 160 mm x T 260 mm


Beladung

- Aluminiumblech

Elektroden

- RIE

Steuerung

- PC-Steuerung (Microsoft Windows XPE)

Druckmessung

- Baratron

Generatoren

Frequenzen:    40 kHz: Leistung 0 - 1000 W; 0 - 1500 W; 0 - 2500 W
                 13,56 MHz: Leistung 0 - 300 W
                   2,45 GHz: Leistung 0 - 1200 W

Die Generatoren sind stufenlos regelbar von 0 - 100 %

Vakuumpumpen

- in verschiedenen Größen und von verschiedenen Herstellern
(nach Bedarf mit Aktivkohlefilter)


 

Hier sehen Sie die
TETRA 15 Sputteranlage


Plasmaanlage FEMTO-8 Variante für Prozessentwicklung, Sputtern, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Diener Plasmasysteme

 TETRA 15 Sputternanlage



Plasmaanlage FEMTO-8 Variante für Prozessentwicklung, Sputtern, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Diener Plasmasysteme
 Vakuumkammer als Schublade




Bitte setzen Sie sich wegen technischer Beratung für diese Anlagen mit uns in Verbindung.

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