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SISTEMAS DE PLASMA - SISTEMAS DE SERIE - STANDARD PLASMA SYSTEMS
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[ PLASMA SYSTEM FEMTO UHP - PLASMA CLEANER ]
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El Plasma system de Laboratorio de dos litros FEMTO con sistema de control semi-automático se usa preferiblemente las siguientes aplicaciones:
- Producción de series pequeñas
- Analítica (REM, TEM)
- Técnicas Medicinales
- Esterilización
- Desarollo e Investigación
- Arqueología
- Industria Textil
- Industria de Semiconductores
- Industria Plástica
Como los folletos todavía
no existen en idioma español se los ponemos a disposición
en inglés.
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Prospekt
FEMTO (PDF 1007 KB) |
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Datos Técnicos:
Plasma etcher Femto UHP
(version 8)
Gabinete Eléctrico:
Ancho 345 mm, Altura 220 mm,
Fondo 420 mm
Cámara de Trabajo:
Ø 95 mm, L 270 mm, Opening Ø 90 mm
Volúmen de la Cámara:
aprox. 1,9 litros
Alimentación del gas:
1 canal de gas con válvula accionada por aguja
Generador:
40kHz/100 W
Bomba de Vacío:
Leybold, Tipo S1,5 (1,5 m³/h)
Bastidor para piezas:
1 Portador de piezas
Sistema de Control:
Semi-automático, duración del proceso por temporizador
Accesorios y Opcionales
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Plasma system FEMTO UHP (version 8): Process development, cleaning, activating, etching
(en series pequeñas)
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Datos Técnicos:
Plasma etcher Femto UHP
(version 9)
Gabinete Eléctrico:
Ancho 560 mm, Altura 310 mm,
Fondo 600 mm
Cámara de Trabajo:
Ancho 95 mm, L 270 mm,
Opening Ø 90 mm
Volúmen de la Cámara:
aprox. 1,9 litros
Alimentación del gas:
1 canal de gas con válvula accionada por aguja
Generador:
40kHz/100 W
Bomba de Vacío:
Leybold, Tipo S1,5 (1,5 m³/h)
Bastidor para piezas:
1 Portador de piezas
Sistema de Control:
Semi-automático, duración del proceso por temporizador
Accesorios y Opcionales
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Plasma system FEMTO UHP (version 9):
Process development, cleaning, activating, etching
(en series pequeñas)
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Datos Técnicos:
Plasma etcher Femto UHP (version 10)
Gabinete Eléctrico:
Ancho 562 mm, Altura 211 mm, Fondo 420 mm
Cámara de Trabajo:
Ø 95 mm, L 270 mm,
Opening Ø 90 mm
Volúmen de la Cámara:
aprox. 1,9 litros
Alimentación del gas:
2 canal de gas con válvula accionada por aguja
Generador:
40kHz/100 W
Bomba de Vacío:
Leybold, Tipo S1,5 (1,5 m³/h)
Bastidor para piezas:
1 Portador de piezas
Sistema de Control:
Semi-automático, duración del proceso por temporizador
Pressure sensor:
Pirani
Accesorios y Opcionales
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Plasma system FEMTO UHP (version 10):
Process development, cleaning, activating, etching
(en series pequeñas)
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Datos Técnicos:
Plasma etcher Femto UHP (version 11)
Gabinete Eléctrico:
Ancho 562 mm, Altura 460 mm, Fondo 550 mm
Cámara de Trabajo:
Ø 95 mm, L 270 mm,
Opening Ø 90 mm
Volúmen de la Cámara:
aprox. 1,9 litros
Alimentación del gas:
3 canales de gas, cada uno controlado por un MFC
Generador:
40kHz/0-100 W
(opcional 13,56 MHz ó 2,45 GHz)
Bomba de Vacío:
Leybold, Tipo S1,5 (1,5 m³/h)
Bastidor para piezas:
1 Portador de piezas
Sistema de Control:
Computadora Personal (PC) con Windows
Accesorios y Opcionales |
Plasma system FEMTO-PC UHP (version 11):
Process development, cleaning, activating, etching
(en series pequeñas) |
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tr>
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Datos Técnicos:
Plasma etcher Femto UHP (version 12)
Gabinete Eléctrico:
Ancho 320 mm, Altura 500 mm, Fondo 420 mm
Cámara de Trabajo:
Ancho 95 mm, Altura 270 mm,
Opening Ø 95 mm
Volúmen de la Cámara:
aprox. 1,9 litros
Alimentación del gas:
2 canales de gas con válvula accionada por aguja
Generador:
40kHz/100 W
Bomba de Vacío:
Leybold, Tipo S1,5 (1,5 m³/h)
Bastidor para piezas:
1 Portador de piezas
Sistema de Control:
Semi-automático, duración del proceso por temporizador
Pressure sensor:
Pirani
Accesorios y Opcionales
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Plasma system FEMTO UHP (version 12):
Process development, cleaning, activating, etching
(en series pequeñas)
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The mentioned prices are without obligation
Please contact us if you have technical questions.
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