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Datos Técnicos:
Plasma etcher NANO UHP
Gabinete Eléctrico:
Ancho 580 mm, Altura 650 mm,
Fondo 600 mm
Cámara de Trabajo:
Ø 240 mm, L 400 mm
(Opcional: L 600 mm)
Apertura de la camára Ø: 230 mm
Materiales: cuarzo o vidrio de silicato
de boro
Paredes frontales y de fondo de la camára: alumninio
Volúmen de la Cámara :
Aprox. 18 litros
Alimentación del gas :
2 canales de gas con válvulas accionadas por aguja
Generador:
40 kHz / 0 - 300 W
(opcional 13,56 MHz ó 2,45 GHz)
Bomba de Vacío :
Leybold, Typ D8B (8 m³/h)
Bastidor para piezas:
1 Portador de piezas
Sistema de Control:
Semi-automático, duración del proceso por temporizador
Accesorios y Opcionales
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Sistema Pequeño NANO UHP con sistema de control
semi-automático: limpieza, activación, mordentado,
revestimientos |
