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Données techniques:
Plasma etcher NANO UHP
Dimensions du système:
L 580 mm, H 650 mm, P 500 mm
Dimensions de la chambre:
Ø 240 mm, P 400 mm
Volume de la chambre:
18 litres
Matière de la chambre:
Quartz ou borosilicate,
arrière de la chambre aluminium
Alimentation en gaz:
2 canaux de gaz réglables par vanne à aiguille
générateur:
40 KHz, réglable de 1 à 300 W
(en option 13.56 MHz ou 2.45 GHz)
Pompe:
Leybold Trivac D8B (8 m3/h)
Support de pièce:
1 plateau
Contrôle:
Contrôle semi automatique du système, la durée du traitement est contrôlée par une horloge programmable.
Options / accessoires
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Plasma system NANO UHP semi automatique : Nettoyage, activation, gravure, dépôt , etc. |
