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SYSTEMES PLASMA

 

[ OPTIONS / ACCESSOIRES POUR LES SYSTEMES PLASMA ]

   
 

   
 

Nos installations plasma sont livrables avec les options et accessoires suivants :

  1. Générateur de 13,56 MHz
    Conformément à la norme EN 55011, nos générateurs 13,56 MHz sont stabilisés par quartz. L'adaptation d'impédance est possible en mode constant, manuel et automatique. Principaux domaines d'application : l'activation, le nettoyage, la gravure, les semi-conducteurs (front-end), les semi-conducteurs (back-end), la polymérisation plasma.


  2. 13.56 Mhz generator for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

  3. Générateur de 40 kHz
    L'adaptation d'impédance est possible uniquement en mode automatique, la puissance est disponible en deux modèles. Principaux domaines d'application : l'activation, le nettoyage, la gravure, les semi-conducteurs (back-end), la polymérisation plasma.


  4. 40 mHz Generator for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  5. Générateur de 2,45 GHz (micro-ondes)
    La puissance va de 0 à 300 Watt. Le générateur est équipé d'une connexion PC. Principaux domaines d'application : l'activation, le nettoyage, la gravure, les semi-conducteurs (front-end), les semi-conducteurs (back-end), la polymérisation plasma.


  6. Valve 2/2 voies pour le dosage des fluides
    Valve pour un dosage précis des monomères.


  7. Contrôle semi-automatique
    Une description détaillée de nos différents modèles de contrôles est disponible en cliquant sur le point de menu Systèmes plasma/Contrôles/Contrôle semi-automatique.



  8. Contrôle semi-automatique
 for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

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  9. Contrôle automatique
    Une description détaillée de nos différents modèles de contrôles est disponible en cliquant sur le point de menu Systèmes plasma/Contrôles/Contrôle automatique.


  10. Contrôle automatique for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

    Cliquez ici pour agrandir l'image.


  11. Contrôle par PC
    Une description détaillée de nos différents modèles de contrôles est disponible en cliquant sur le point de menu Systèmes plasma/Contrôles/Contrôle par PC.


  12. Contrôle par PC for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

    Cliquez ici pour agrandir l'image.

  13. Contrôle par PCCE
    Fonctionne avec le système d'exploitation Windows CE avec écran tactile. Une description détaillée de nos différents modèles de contrôles est disponible en cliquant sur le point de menu Systèmes plasma/Contrôles/Contrôle par PCCE.


  14. Contrôle par PCCE for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

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  15. Filtre à charbon actif
    Le filtre à charbon actif est facilement changeable.

    Filtre à charbon actif for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment



  16. Filtre d'aspiration pour la pompe à vide
    Protège la pompe à vide des éléments en suspension dans l'air, des particules de revêtement et des impuretés.

  17. Filtre d'aspiration pour la pompe à vide
 for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment




  18. Porte automatique
    Cette porte se ferme automatiquement au démarrage du processus.


  19. Porte automatique
 for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

  20. Lecteur de code-barres
    Pour un suivi des lots.


  21. Lecteur de code-barres
 for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  22. Chambre chauffable
    Cette chambre peut être chauffée jusqu'à env. 80 °C. La température est réglable. Cette chambre convient pour les processus qui s'effectuent dans des conditions déterminées et pour les taux de gravures élevés.

  23. Mesure de la tension induite
    Cet appareil de mesure de la tension induite est disponible pour des générateurs de fréquences en kHz et en MHz.


  24. Flacon laveur
    Le flacon laveur fait partie des accessoires nécessaires pour la polymérisation pour relier les monomères liquides à la chambre sous vide. On utilise un gaz porteur au lieu du simple flacon de monomères. Le gaz porteur, l'argon par exemple, est rincé par le monomère.


  25. Flacon laveur for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

  26. Vanne papillon
    En technologie du vide, une vanne papillon sert à réguler un flux gazeux, principalement dans la conduite d'aspiration d'une pompe à vide. La résistance de l'écoulement dans la conduite peut être modifiée par le réglage d'un clapet qui obture plus ou moins la conduite.


  27. Vanne papillon for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  28. Documentation en langue locale
    Cette documentation est réalisée conformément aux directives pour machines 89/392/EWG. La documentation en langue locale, sauf pour les langues anglaise et allemande, n'est pas livrée automatiquement avec l'installation. Elle doit être commandée séparément.


  29. Tambour rotatif
    Type de support pour le traitement des pièces en vrac.


  30. Tambour rotatif for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  31. Manomètre
    Capteur Pirani ou Baratron : affichage de la pression dans la chambre sous vide.


  32. Manomètre for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatmentManomètre for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  33. Réducteur de pression
    Le réducteur de pression permet le raccord à la bouteille de gaz : 200 bars. Différents réducteurs de gaz sont nécessaires pour les différents gaz. Il existe ainsi des réducteurs de gaz pour les gaz nobles, pour H2, pour O2, CF4, C4F8 et pour NH3.


  34. Réducteur de pression for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  35. Installations en continu
    Pour intégrer une installation plasma basse pression dans une ligne de traitement automatique.


  36. Jeu de pièces de rechange standard ou PFPE
    Le jeu de pièces de rechange contient 1 bague de serrage, 1 joint, 1 flexible en acier (pour la pompe à vide), 1 vitre, 1 joint de porte, 10 micro fusibles pour l'installation plasma, 1 litre d'huile minérale (jeu standard) ou d'huile PFPE (jeu PFPE) pour la pompe à vide.


  37. Jeu de pièces de rechange standard ou PFPE
 for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  38. Imprimante pour étiquettes
    Impression automatique d'étiquettes après le traitement plasma.


  39. Imprimante pour étiquettes for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

  40. Lecteur d'étiquettes
    Pour un suivi des lots.


  41. Cage de Faraday
    Pour les composants électriques sensibles. Les composants à traiter se trouvent dans la cage de Faraday. Celle-ci peut-être retirée de la chambre sous vide.


  42. Cage de Faraday for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  43. Support pour bouteilles de gaz
    Se fixe sur le bureau, les étagères ou les plinthes. La longueur est de 70 mm. La lanière permet de fixer solidement le support. Ce support convient pour toutes les dimensions de flacons.


  44. upport pour bouteilles de gaz for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  45. Détecteur de gaz (Dräger)
    Une sécurité supplémentaire en cas d'utilisation de gaz inflammables sur les sites de travail.


  46. Plaque chauffante
    Les pièces à traiter sont posées sur la plaque chauffante. Celle-ci peut atteindre une température maximale de 150 °C et convient pour les processus qui s'effectuent dans des conditions déterminées et pour les taux de gravures élevés. Deux options sont disponibles :
    Un capteur thermique équipé d'un appareil d'affichage de la température est introduit dans la chambre sous vide afin de mesure la température à la surface de l'élément.
    Un capteur thermique équipé d'un affichage de la température intégré au contrôle par PC est également introduit dans la chambre sous vide afin de mesurer la température à la surface de l'élément. La température est alors affichée sur l'écran.


  47. Plaque chauffante for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  48. Installation de votre installation plasma sur site
    Cette option comprend le temps de transport, le temps de travail ainsi que les frais de transport de nos collaborateurs.


  49. Capteur de mesure du flux d'ions
    Contrôle qualité supplémentaire du plasma au cours du processus.


  50. Modèle gaz corrosifs
    Vannes en acier. Tuyauterie en acier. Obligatoire pour la polymérisation plasma ou l'utilisation de gaz corrosifs tels que NH3, H2O, CF4 ou SF6.


  51. Supports spécifiques clients
    Nos installations sont toujours livrées avec un support. D'autres modèles peuvent être réalisés sur demande auprès de Diener electronic. Permettent une utilisation optimale de l'installation plasma.


  52. Supports spécifiques clients for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  53. Vernis en spray / Kit de plaques en verre (test pour matériaux sans silicone)
    Accessoires pour le test d'absence de silicone. Contenu de la livraison : spray de vernis, 5 flacons de 400 ml. 100 plaques de verres de 90 mm x 110 mm.


  54. Vernis en spray / Kit de plaques en verre (test pour matériaux sans silicone)for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  55. Aération lente de la chambre sous vide
    La chambre sous vide est aérée lentement au moyen d'un filtre. Ainsi, les petites particules ne circulent pas dans la chambre.


  56. Pompage lent de la chambre sous vide
    Le pompage lent de la chambre sous vide s'effectue par une vanne By-pass. Ainsi, les petites particules ne circulent pas dans la chambre.


  57. Chambres sous vide plus longues (Femto, Pico, Nano, ...)
    Conformément à la norme DIN 12198, une mesure de l'intensité du rayonnement UV a été réalisée sur nos installations (jauge). Résultat : aucun risque. Ces chambres sous vides sont livrables en acier, en verre borosilicate ou en verre de quartz. Il est possible de choisir une fermeture de porte par couvercle ou par porte avec charnière. La longueur des chambres sous vides dépend de l'application plasma et de vos attentes. N'hésitez pas à nous contacter.


  58. Affichage de la puissance
    Affichage de la puissance du générateur. Instrument d'affichage analogique.



  59. Affichage de la puissance for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  60. Électrode à plusieurs étages
    L'électrode à plusieurs étages est disponible pour des chambres sous vide circulaires et/ou rectangulaires. Plusieurs pièces peuvent être traitées en même temps. Le domaine d'application est principalement les processus plasma standard. N'hésitez pas à contacter Diener electronic si vous avez des questions sur la structure exacte de votre électrode et sur d'autres matériaux pour l'élaboration de votre support.


  61. Électrode à plusieurs étages for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  62. Détecteur de fuites micro-ondes
    Étant donné que le rayonnement est dangereux, il peut être utile d'adjoindre un détecteur de fuites micro-ondes aux installations micro-ondes.


  63. Flacon à monomères
    Accessoire de polymérisation. Pour relier les monomères liquides à la chambre sous vide.


  64. Flacon à monomères for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  65. Connexion réseau
    Permet de connecter l'installation à un ordinateur.


  66. Spectromètre d'émission optique (SEO)
    Surveillance du processus plasma pour l'assurance qualité. Détection de l'extrémité du processus plasma. Peut être connecté uniquement à une installation contrôlée par PC.


  67. Accessoires de polymérisation
    Contient un flacon évaporateur, une balance, une pompe doseuse, un dispositif de chauffage et éventuellement un crochet.


  68. Bouteille de gaz de process
    Bouteille d'oxygène pour raccord en tant que gaz de process en modèle de 2, 5 et 10 litres, bouteille d'hydrogène de 2 litres, bouteille d'argon de 5 litres. Des conditions de transport particulières sont à prévoir pour la livraison des gaz. Pour les installations en location, les bouteilles doivent être achetées.


  69. Bac en verre de quartz
    Disponible en deux dimensions. Pour un processus plasma ou un traitement des plaques extrêmement propre.


  70. Bac en verre de quartz for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  71. Électrode RIE
    Existe en modèle circulaire et rectangulaire en acier, réalise des taux de gravure élevés. Domaines d'application : gravure anisotrope et isotrope.


  72. Électrode RIE for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  73. Électrode RIE en pomme de douche
    Rectangulaire, en acier. Réalise des taux de gravure grâce à une répartition homogène du gaz. Domaine d'application : gravure anisotrope.


  74. Électrode RIE en pomme de douche for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  75. Système à bobines
    Pour le traitement des films plastiques / lead-frames, par exemple.



  76. Système à bobines for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  77. Générateur d'oxygène
    L'oxygène est généré à partir de l'air ambiant. Type Kröber O2. Puissance d'oxygène : 3-6 l/min.


  78. Générateur d'oxygène for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  79. Vanne de sécurité
    Pour l'utilisation de gaz inflammables, tels que l'hydrogène, l'éthyne...


  80. Vanne de sécurité for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  81. Électrode et support spéciaux
    N'hésitez pas à contacter Diener electronic si vous avez des questions sur la structure exacte de votre électrode et sur d'autres matériaux pour l'élaboration de votre support.


  82. Électrode et support spéciaux for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

  83. Brides supplémentaires
    Les brides supplémentaires sont utilisées lorsque des raccords supplémentaires sont nécessaires.


  84. Brides supplémentaires for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  85. Chambres sous vides spéciales
    Conformément à la norme DIN 12198, une mesure de l'intensité du rayonnement UV a été réalisée sur nos installations (jauge). Résultat : aucun risque. Il existe des modèles de chambres sous vides spéciales circulaires avec couvercles ou rectangulaires avec portes et charnières. Elles sont en aluminium et se différencient également par le diamètre de leur ouverture et par leurs dimensions internes. N'hésitez pas à nous contacter.


  86. Chambres sous vides spéciales for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  87. Électrode standard circulaire ou rectangulaire
    En tôle d'acier/aluminium pour processus plasma standard.


  88. Support pour échantillons TEM
    Dispositif spécial à introduire dans la chambre de l'extérieur. Toutes les dimensions sont réalisables. Il vous suffit de nous communiquer les mesures/dessins de vos pièces.


  89. Support pour échantillons TEM for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  90. Appareil d'affichage de la température
    Affichage de la température dans la chambre sans plaque chauffante. Un capteur thermique est introduit dans la chambre sous vide. La température à la surface de l'élément peut ainsi être mesurée. L'affichage de la température peut également être intégré au contrôle par PC. La température est alors affichée sur l'écran.


  91. Appareil d'affichage de la température for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  92. Kit d'encres de test
    Encres de test pour une analyse simple de la tension de surface. 28, 38, 56, 64, 72 et 105 mN/m en un kit. D'autres valeurs sont disponibles sur demande.


  93. Kit d'encres de test for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  94. Évaporateur thermique
    Pour les substances à faible pression de vapeur. Diamètre du fût : 16 mm, Volume du fût : 0,1 l. Protection contre les effets plasma, contrôle de la température (500 °C max.) de la rapidité d'augmentation de la température (jusqu'à 250 °C/min). La connexion passe par des petites brides.


  95. Minuteur LT4H
    Remplace le minuteur standard pour le réglage du temps de processus.


  96. Minuteur LT4H for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  97. Chambres sous vide en verre (borosilicate ou quartz)
    Les chambres sous vides en verre de borosilicate conviennent pour les processus plasma propres, les chambres en verre de quartz pour les processus ultra propres.


  98. Chambres sous vide en verre (borosilicate ou quartz) 
 for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  99. Chambres sous vide en acier
    Les chambres sous vide en acier conviennent pour les processus plasma standard.


  100. Chambres sous vide en acier for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  101. Groupes de vide
    Pompe à palette ou pompe à marche à sec avec huile minérale ou PFPE. Les pompes sont livrées avec le plein d'huile.


  102. Dispositif spécial pour le traitement de poudre
    La poudre est traitée dans une bouteille de gaz rotative. Pour le remplissage, la bouteille peut être retirée de l'installation.


  103. Dispositif spécial pour le traitement de poudre for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  104. Système de refroidissement à eau
    Refroidissement air/eau sur roulettes pour une utilisation mobile. Raccordement sans potentiel par 2 contacts inverseurs pour le dispositif de protection de la pompe.


  105. Système de refroidissement à eau for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  106. Offre de maintenance pour votre installation plasma
    L'offre de maintenance Diener electronic comprend un entretien complet : vidange d'huile, contrôle de tous les raccordements, joints, connecteurs, etc., test de détection des fuites, équilibrage du capteur de pression et test de fonctionnement. Pour plus d'informations sur les services de maintenance et d'entretien, cliquez sur le point de menu Conseil.

  107. Sac à lessive
    Pour prélaver les petites pièces dans la machine à laver. Dimensions : 500 mm x 300 mm. Quantité de commande minimum : 20 pièces.


  108. Sac à lessive for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment


  109. Sèche-linge
    Pour le prélavage des petites pièces avant le traitement plasma. Nécessaire uniquement pour les pièces très sales. Fabricant : Miele : Modèle WT 2670 WPM.


  110. Plateau support refroidi à l'eau
    Le plateau refroidi à l'eau se monte sur le sol de la chambre et est livré avec pompe hydraulique et réservoir d'eau. Il permet de refroidir les pièces sensibles à la chaleur.


  111. Autres fonctions logicielles
    Vous pouvez, à tout instant, ajouter de nouvelles options à votre logiciel. N'hésitez pas à nous communiquer vos besoins.


  112. Canaux de gaz supplémentaires
    Vanne à aiguille : nos installations peuvent être équipées d'autant de vannes à aiguilles que vous le souhaitez. Traditionnellement, il est possible d'installer 1 à 3 vannes sur une installation plasma de type Femto, selon la demande.


  113. Canaux de gaz supplémentaires for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

  114. MFC supplémentaires
    Les contrôleurs de débit massique de gaz sont nécessaires pour les systèmes de contrôle par PC et par PCCE. Nos installations peuvent être équipées d'autant de contrôleurs de débit massique de gaz (MFC) que vous le souhaitez.


  115. MFC supplémentaires for plasma system - plasma cleaner, each plasma etcher needs an individual type, to do the right plasma process, surface technology, optimize plasma treatment

Ces options peuvent, pour la plupart, être montées sur les appareils.
   
   
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