diener electronic  |  PLAZMOWA OBRÓBKA POWIERZCHNI Plasma Plasma systems Surface-Technology
 
german english spanish english turkish italian french
russian polish czech chinese japanesetaiwanese korean
home
  Tecnika plazmowa
  Słownictwo
  FAQ
  Urządzenia Plazmowe
  Plazma
niskociśnieniowa
    Zepto - low-cost
    Atto - low-cost
    Femto
    Femto UHP
    Femto PCCE
    Pico
    Pico UHP
    Nano
    Nano UHP
    Tetra-30-LF
    Tetra-30-LF-PC
    Tetra-100-LF
    Tetra-100-LF-PC
    Tetra-150-LF
    Tetra-150-LF-PC
    Urzadzenia specjalne
    Budowa i zasada
  dzialania
    Odmiany
  Konstrukcyjne
    Sterowanie
    Opcje/osprzet
    electron microscopy
  atmospheric plasma
Generators
  Doradztwo/Serwis
  Łącza/
przedstawicielstwa
  Referencje
  Targi
  Kontakt
  Dojazd
  O nas
  Pliki do pobrania
   
 

URZADZENIA PLAZMOWE - STANDARD PLASMA SYSTEMS

 

[ PLASMA SYSTEM FEMTO UHP - PLASMA ETCHER ]

   
  Dwulitrowe urzadzenie laboratoryjne plasma system FEMTO z pólautomatycznym sterowaniem jest stosowane glównie w nastepujacych dziedzinach:


  • produkcja maloseryjna,
  • analityka (REM, TEM),
  • technika medyczna,
  • sterylizacja,
  • dzialy badawczo-rozwojowe,
  • archeologia,
  • przemysl tekstylny,
  • technologia pólprzewodnikowa,
  • technologia tworzyw sztucznych.





  Prospekt FEMTO (PDF 1007 KB)
 
   
 

Dane techniczne:
Plasma System Femto UHP

Szafa rozdzielcza:
szer. 345 mm, wys. 220 mm,
gl. 420 mm
Komora:
Ø 95 mm, dl. 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Objetosc komory:
ok. 1,9 litrós
Doprowadzenie gazu:
1 kanal gazowy przez zawór iglicowy
Generátor:
40kHz/100W, regulacja bezstopniowa
Pompa prózniowa:
Leybold, typ S1,5 (1,5m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
1 nosnik produktów
Sterowanie:
pólautomatyczne, sterowanie czasem procesu za pomoca zegara

Opcje/osprzet



 
Plasmaanlage FEMTO UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Male urzadzenie
plasma system FEMTO (version 8): opracowywanie procesów, czyszczenie, aktywowanie, trawienie w malych seriach





Dane techniczne::
Plasma System Femto UHP

Szafa rozdzielcza:
szer. 560 mm, wys. 310 mm, gl. 600 mm
Komora:
Ø 95 mm, dl. 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Objetosc komory:
ok. 1,9 litrós
Doprowadzenie gazu:
1 kanal gazowy przez zawór iglicowy
Generátor:
40kHz/100W, regulacja bezstopniowa
Pompa prózniowa:
Leybold, typ S1,5 (1,5m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
1 nosnik produktów
Sterowanie:
pólautomatyczne, sterowanie czasem procesu za pomoca zegara

Opcje/osprzet



 
Plasmaanlage FEMTO UHP(mit Scharniertür) für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Male urzadzenie
plasma system FEMTO (version 9): opracowywanie procesów, czyszczenie, aktywowanie, trawienie w malych seriach
 
 

Dane techniczne:
Plasma System Femto UHP



Szafa rozdzielcza:
szer. 562 mm, wys. 211 mm,
gl. 420 mm
Komora:
Ø 95 mm, dl. 270 mm,
Öffnung Ø 90 mm
Objetosc komory:
ok. 1,9 litrós
Doprowadzenie gazu:
2 kanaly gazowe przez zawór iglicowy
Generátor:
40 kHz/100W, regulacja bezstopniowa
Pompa prózniowa:
Leybold, typ S1,5 (1,5m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
1 nosnik produktów
Sterowanie:
pólautomatyczne, sterowanie czasem procesu za pomoca zegara
Druckmessgerät:
Pirani

Opcje/osprzet

Plasmaanlage FEMTO LF UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Male urzadzenie
plasma system FEMTO (version 10):
opracowywanie procesów, czyszczenie, aktywowanie, trawienie w malych seriach

 


 

Dane techniczne:
Plasma System Femto-PC UHP



Szafa rozdzielcza:
szer. 500 mm, wys. 460 mm,
gl. 550 mm
Komora:
Ø 95 mm, dl. 270 mm,
Öffnung Ø 90 mm
Objetosc komory:
ok. 1,9 litrós
Doprowadzenie gazu:
3 kanaly gazowe MFC
Generátor:
40 kHz/0-100 W
(Optional: 13,56 MHz o. 2,45 GHz)
Pompa prózniowa:
Leybold, typ S1,5 (1,5m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
1 nosnik produktów
Sterowanie:
sterowanie PC (Windows)

Opcje/osprzet

Plasmaanlage FEMTO PC UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme
Male urzadzenie
plasma system FEMTO (version 11):
opracowywanie procesów, czyszczenie, aktywowanie, trawienie w malych seriach
   
   

Dane techniczne:
Plasma System Femto UHP



Szafa rozdzielcza:
szer. 320 mm, wys. 500 mm, gl. 420 mm
Komora:
O 95 mm, dl. 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Objetosc komory:
ok. 1,9 litrós
Doprowadzenie gazu:
2 kanaly gazowe przez zawór iglicowy
Generátor:
40 kHz/100W, regulacja bezstopniowa
Pompa prózniowa:
Leybold, typ S1,5 (1,5m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
1 nosnik produktów
Sterowanie:
pólautomatyczne, sterowanie czasem procesu za pomoca zegara
Druckmessgerät:
Pirani

Opcje/osprzet

Plasmaanlage FEMTO UHP vertikal für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme
Male urzadzenie
plasma system FEMTO (version 12):
opracowywanie procesów, czyszczenie, aktywowanie, trawienie w malych seriach

Podane ceny sa niewiazace. W sprawie porad technicznych dotyczacych tego urzadzenia prosimy o kontakt.

  home | Tecnika plazmowa | Słownictwo | FAQ | Urządzenia Plazmowe | Leasing maszyn | Obróbka uslugowa | Doradztwo/Serwis | Łącza/przedstawicielstwa| Referencje | Pliki do pobrania | Targi | Kontakt | Dojazd | O nas | Stopka redakcyjna
  © 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG    Webdesign Heindl Internet AG