| |
Dane techniczne:
Plasma etcher NANO UHP
Szafa rozdzielcza:
szer. 580 mm, wys. 650 mm, gl. 600 mm
Komora:
O 240 mm, dl. 400 mm
(Opcja: dl. 600 mm)
Materialy:
szklo kwarcowe lub borokrzemianowe; przednia i tylna
sciana komory: aluminium
Objetosc komory:
ok. 18 litrów
Doprowadzenie gazu:
2 kanaly gazowe przez zawór iglicowy
Generator:
40kHz/300 W, regulacja bezstopniowa
(Opcja: 13,56 MHz lub 2,45 GHz)
Pompa prózniowa:
Leybold, Typ D8B (8 m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
1 nosnik produktów
Sterowanie:
pólautomatyczne, sterowanie czasem procesu za pomoca
zegara
Opcje/osprzet
|
|
Male urzadzenie plasma system NANO UHP ze sterowaniem
pólautomatycznym: czyszczenie, aktywowanie,
wytrawianie, powlekanie |
