| |
Технические характеристики:
Plasma etcher NANO UHP
Шкаф распределительного устройства:
Ш 580 мм, В 650 мм, Г 600 мм
Камера:
Ø 240 мм, Г 400 мм
(опционально: L 600 мм)
Входное окно: Ø 230 мм
Материал: кварцевое или боросиликатное стекло
Передняя и задняя панели камеры: алюминиевые
Объём камеры:
~ 18 литров
Подвод газа:
2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами
Генератор:
40 кГц / 300 Вт, бесступенчатый
(опционально: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Вакуумный насос:
Leybold, тип D8B (8 м³/ч)
Комплектация:
Подложка для обрабатываемых образцов – 1 шт.
Управление:
полуавтоматическое, время устанавливается таймером
ОПЦИИ / ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ ПЛАЗМЕННЫХ УСТАНОВОК |
|
Малогабаритная установка (plasma system) „NANO UHP“ с полуавтоматическим управлением: очистка, активация, травление, насенение покрытий |
