| |
Технические характеристики:
Plasma etcher TETRA-100-LF-PC
Шкаф распределительного устройства:
Ш 600 мм, в 2.200 мм, Г 800 мм
Камера:
Ш 400 мм, В 400 мм, Г 625 мм
Объем камеры:
~ 100 литров
Подвод газа:
3 регулятора расхода через MFCs
Генератор:
40 кГц / 0 – 2500 Вт
(опционально: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Вакуумный насос:
Leybold, тип D40B (40 м³/ч)
Комплектация:
До 10 ярусов(до подложек для обрабатываемых образцов)
(опционально: вращающийся барабан)
Управление:
через ПК (Windows)
ОПЦИИ / ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ ПЛАЗМЕННЫХ УСТАНОВОК |
|
„Plasma system TETRA-100-LF-PC“ применяется для очистки, активации, травления
Шестиярусный блок загрузки камеры и вращающийся барабан для систем TETRA plasma system |
